Le laboratoire des matériaux et du génie physique (CNRS-Gre­ noble INP-Minatec) a développé un procédé rapide et économique de dépôts de couches ultraminces sur substrat. Cette découverte ouvre des perspectives dans la fabrication de supports flexibles pour des cellules photovoltaïques. La technologie, dit ALD (pour Atomic Layer Deposition) est plus efficace que le dépôt par vapeur (CVD, Chemical Vapor Deposition), mais plus lent. Les chercheurs ont réussi à injecter plusieurs précurseurs chimiques en continu, sur des zones différentes du substrat, d'où une mise en œuvre réduite à quelques minutes contre une journée précédemment. Reste à garantir l'homogénéité des couches fabriquées. l