Le laboratoire des matériaux et du génie physique (CNRS/Grenoble INP/ Minatec) a développé un procédé rapide et économique de dépôts de couches ultraminces sur substrat, qui ouvre des perspectives dans la fabrication de supports flexibles pour des cellules photovoltaïques, notamment. La technologie, dite ALD (pour Atomic Layer Deposition), s'avère plus efficace que le dépôt par vapeur (CVD, Chemical Vapor Deposition), mais lent. Les chercheurs ont tout de même réussi à injecter plusieurs précurseurs chimiques en continu, sur des zones différentes du substrat, d'où une mise en œuvre réduite à quelques minutes, contre une journée précédemment. Reste encore à garantir l'homogénéité des couches fabriquées avec cette ALD spatiale.